關(guān)于退火爐的爐溫控制介紹
退火爐用于不同規(guī)格銅直管（棒）、鋼管、鋁管或盤園在控制氣氛下連續(xù)光亮退火。工件連續(xù)通過預熱、加熱、保溫、緩冷、冷卻，不受長度限制。傳動采用托輥式同步傳動，變頻調(diào)速，平穩(wěn)牢靠。通保護氣氛和熱氣氛循環(huán)，溫度均勻，內(nèi)外表面很光亮。冷卻區(qū)設(shè)計特殊，保障工件均勻冷卻。處理的產(chǎn)品內(nèi)外表面光亮，產(chǎn)品質(zhì)量高，生產(chǎn)率高。
退火爐一般無需程序溫控流程，（特殊工藝除外）直接設(shè)置使用溫度即可。如果該爐是剛使用的話需要烘爐，應設(shè)置溫控流程。1、設(shè)置200度保溫6小時；2、設(shè)置500度保溫6小時；3、設(shè)置700度保溫4小時；4、設(shè)置950度保溫2小時，就可以裝料使用了。
退火爐是在半導體器件制造中使用的一種工藝，其包括加熱多個半導體晶片以影響其電性能。熱處理是針對不同的效果而設(shè)計的。可以加熱晶片以激活摻雜劑，將薄膜轉(zhuǎn)換成薄膜或?qū)⒈∧まD(zhuǎn)換成晶片襯底界面，使致密沉積的薄膜，改變生長的薄膜的狀態(tài)，修復注入的損傷，移動摻雜劑或?qū)诫s劑從一個薄膜轉(zhuǎn)移到另一個薄膜或從薄膜進入晶圓襯底。
